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              FR-Scanner:自動(dòng)化高速薄膜厚度測(cè)量?jī)x

              簡(jiǎn)要描述:光學(xué)厚度測(cè)量?jī)x的光學(xué)模塊可容納所有光學(xué)部件:分光計(jì)、復(fù)合光源(壽命10000小時(shí))、高精度反射探頭。因此,在準(zhǔn)確性、重現(xiàn)性和長(zhǎng)期穩(wěn)定性方面保證了優(yōu)異的性能。

              • 產(chǎn)品型號(hào):
              • 廠商性質(zhì):代理商
              • 產(chǎn)品資料:
              • 更新時(shí)間:2024-11-09
              • 訪  問(wèn)  量: 1149

              詳細(xì)介紹

               Thetametrisis顯示器薄膜測(cè)量儀 FR-Scanner 是一種緊湊的臺(tái)式工具,適用于自動(dòng)測(cè)繪晶圓片上的涂層厚度。FR-Scanner 可以快速和準(zhǔn)確測(cè)量薄膜特性:厚度,折射率,均勻性,顏色等。真空吸盤可應(yīng)用于任何直徑或其他形狀的樣片。
                1、應(yīng)用
                半導(dǎo)體生產(chǎn)制造:(光刻膠, 電介質(zhì),光子多層結(jié)構(gòu), poly-Si, Si, DLC, )
                光伏產(chǎn)業(yè)
                液晶顯示
                光學(xué)薄膜
                聚合物
                微機(jī)電系統(tǒng)和微光機(jī)電系統(tǒng)
                基底:透明 (玻璃, 石英, 等等) 和半透明
                Thetametrisis顯示器薄膜測(cè)量儀*的光學(xué)模塊可容納所有光學(xué)部件:分光計(jì)、復(fù)合光源(壽命10000小時(shí))、高精度反射探頭。因此,在準(zhǔn)確性、重現(xiàn)性和長(zhǎng)期穩(wěn)定性方面保證了優(yōu)異的性能。
                Thetametrisis顯示器薄膜測(cè)量儀 光學(xué)厚度測(cè)量?jī)x通過(guò)高速旋轉(zhuǎn)平臺(tái)和光學(xué)探頭直線移動(dòng)掃描晶圓片(極坐標(biāo)掃描)。通過(guò)這種方法,可以在很短的時(shí)間內(nèi)記錄具有高重復(fù)性的精確反射率數(shù)據(jù),這使得FR-Scanner 成為測(cè)繪晶圓涂層或其他基片涂層的理想工具。
                2、特征
                單點(diǎn)分析(不需要預(yù)估值)
                動(dòng)態(tài)測(cè)量
                包括光學(xué)參數(shù)(n和k,顏色) o 為演示保存視頻
                600 多種的預(yù)存材料
                離線分析
                免費(fèi)軟件更新

                3、性能參數(shù)


                4、測(cè)量原理
                白光反射光譜(WLRS)是測(cè)量從單層薄膜或多層堆疊結(jié)構(gòu)的一個(gè)波長(zhǎng)范圍內(nèi)光的反射量,入射光垂直于樣品表面,由于界面干涉產(chǎn)生的反射光譜被用來(lái)計(jì)算確定(透明或部分透明或*反射基板上)的薄膜的厚度、光學(xué)常數(shù)(n和k)等。


               
                1、樣片平臺(tái)可容納任意形狀的樣品。450mm平臺(tái)也可根據(jù)要求提供。真正的X-Y掃描也可能通過(guò)定制配置;
                2、硅基板上的單層SiO2薄膜的厚度值。對(duì)于其他薄膜/基質(zhì),這些值可能略有不同;
                3、15天平均值的標(biāo)準(zhǔn)差平均值。樣品:硅晶片上1微米的二氧化硅;
                4、2 X (超過(guò)15天的日平均值的標(biāo)準(zhǔn)偏差)。樣品:硅晶片上1微米的二氧化硅;
                5、測(cè)量結(jié)果與校準(zhǔn)的光譜橢偏儀比較;
                6、根據(jù)材料;
                7、測(cè)量以8 "晶圓為基準(zhǔn)。如有特殊要求,掃描速度可超過(guò)1000次測(cè)量/每分鐘;
                如果您想要了解更多關(guān)于Thetametrisis膜厚儀的產(chǎn)品信息,請(qǐng)聯(lián)系我們岱美儀器。



               

               

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