它是一個基于模塊化和改進的SmartNIL模塊的獨立系統(tǒng)，可以根據(jù)處理和自動化水平進行配置。EVG7300支持從150毫米到300毫米的晶圓尺寸，具有低至300納米的高精度對準，先進的過程控制和高吞吐量，可以滿足各種自由形狀和高精度納米和微光學元件和器件的先進研發(fā)和大批量制造(HVM)需求。為了在HVM環(huán)境中集成預處理和后處理流的必要性，該模塊可以集成到HERCULES NIL系統(tǒng)中

這種多功能系統(tǒng)旨在服務于廣泛的新興應用，包括微和納米壓印以及功能層的紫外線堆疊。因此，該設(shè)備可以增強晶圓級光學(WLO)，納米光子學，超表面和生物醫(yī)學芯片的工藝性能。這與行業(yè)對新型光學傳感器和光電子器件的需求密切相關(guān)，例如自動駕駛，汽車和裝飾照明中的微透鏡陣列和投影儀，生物識別認證的衍射光學器件以及復雜元透鏡的新興趨勢。利用這項技術(shù)的第一個應用已經(jīng)存在于先進的生物醫(yī)學設(shè)備和增強現(xiàn)實波導領(lǐng)域，其中納米印跡技術(shù)可以實現(xiàn)復雜設(shè)計的高質(zhì)量制造。

特點

· 靈活性:UV- nil系統(tǒng)在一個工具中實現(xiàn)三個UV過程:SmartNIL, WLO和堆疊

     · 精確控制多步工藝，包括對準，接觸和紫外線固化

     · 用于SmartNIL和WLO的低力自動沖壓分離

· 可擴展性:加工高達300mm基板的晶圓

· 模塊化:獨立模塊，以及集成到HERCULES NIL

     · 基材搬運:從手動裝載到全自動操作

     · 可選的自動郵票加載SmartNIL允許連續(xù)模式操作

· 高級對齊功能

     · 實時校準<±300nm(取決于工藝)

· UV LED燈最高功率500mW/cm2

     · > 90%均勻度

     · 可選:雙波長工作:365nm和405nm

     · 不同的曝光模式

· 可選特性

     · 光楔誤差補償(WEC)

     · 溫度控制

· 行業(yè)先進的工藝性能

     · 分辨率低至單納米范圍

     · 非常精確的殘余層控制

技術(shù)數(shù)據(jù)

晶圓直徑（襯底尺寸）：最大300毫米

分辨率：≤10納米（視工藝及材料而定，主料由客戶提供）

支持的進程：Lens Stacking、Lens Molding、SmartNIL®